В РФ запустят линию по производству чипов, устаревшую к моменту запуска

Россия стремится развивать электронику без опоры на зарубежные поставки, поэтому Минпромторг выделил финансирование на создание к 2030 году отечественной фотолитографической линии для выпуска микрочипов. Проект рассчитан на топологию 180–130 нм, тогда как мировые лидеры, включая тайваньскую TSMC, уже работают над технологиями уровня 2 нм.

На этом фоне возникает мнение, что будущая российская линия может устареть ещё до запуска, а вложенные 2,8 млрд рублей окажутся неэффективными. Считается, что страна пытается строить производство, которое в мире развивается в рамках широкой международной кооперации, и такая стратегия может закрепить технологическое отставание.

Однако есть и другая точка зрения: текущие разработки могут быть нацелены не на глобальную конкуренцию, а на обеспечение внутренней устойчивости. Предполагается, что при возможном полном разрыве поставок Россия хочет сохранить минимально необходимую производственную базу для нужд оборонной промышленности и госструктур.

К 2030 году планируется создать кластерную линию фотолитографии, где все этапы объединят в единый комплекс. Оборудование и комплектующие должны быть полностью российского производства, что позволит снизить зависимость от импорта.

В итоге проект направлен не столько на технологический рывок, сколько на формирование своей элементной базы в условиях ограниченных возможностей и внешнего давления. Хотелось бы двигаться быстрее и амбициознее, но текущая ситуация диктует свои правила.

Рекомендуем также:

1. ЖКХ ужесточает правила учёта ресурсов: неправильная передача счётчиков может обернуться двойными платежами