Dai Nippon Printing усовершенствовала нанолитографию, бросив вызов ASML

Японская компания Dai Nippon Printing представила усовершенствованный процесс нанолитографии, который обещает стать значительно более выгодным по сравнению с традиционной фотолитографией, доминирующей на рынке. Данная информация была опубликована в Nikkei Asia.

На сегодняшний день нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для производства чипов, предоставляя машины для фотолитографии, где микросхемы создаются с использованием мощных УФ-лазеров. Этот процесс требует значительных энергетических ресурсов, а стоимость оборудования может достигать сотен миллионов долларов, что делает его крайне дорогим.

Однако Dai Nippon Printing предлагает альтернативу, возрождая технологию нанолитографии, в которой микросхема отпечатывается на кремниевой пластине. Ранее считалось, что этот метод не подходит для достижения технопроцессов менее 2 нанометров, но инженеры компании разработали специальный материал, позволяющий создавать точный след будущей микросхемы.

Ключевым компонентом в этом процессе стало оборудование компании Canon, которое может создавать структуры до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии, что создает значительное конкурентное преимущество.

Разработкой японской компании уже проявили интерес ведущие производители чипов, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia. Однако для того, чтобы адаптировать эту технологию на своих мощностях, компаниям необходимо убедиться в её стабильности. Kioxia, в частности, уже начала тестовое производство, и если результаты будут положительными, массовое внедрение технологии другими игроками на рынке может начаться в 2027-2028 годах.

]]>