НИИМЭ и НИИТМ приблизили Россию к чипам 65 нм

На фо­то: ге­нераль­ный ди­рек­тор НИИ­МЭ Алек­сандр Крав­цов (сле­ва) и ге­нераль­ный ди­рек­тор НИИТМ Ми­хаил Би­рюков (фо­то ComNews)

Науч­но‑ис­сле­дова­тель­ские ин­сти­туты НИИ­МЭ и НИИТМ впер­вые в Рос­сии соз­да­ли клас­тер­ные сис­те­мы для плаз­мо­хими­чес­ко­го осаж­де­ния (ПХО) и трав­ле­ния (ПХТ), спо­соб­ные вы­пус­кать чи­пы с проек­тны­ми но­рами 65 нм, на крем­ние­вых плас­ти­нах диа­мет­ром 200 мм и 300 мм. Объ­ем ин­вес­ти­ций в проект пре­высил 2,5 млрд руб.

Лео­нид Ко­ник

© ComNews

11.12.2025

АО "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники" (НИИМЭ) и АО "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" (НИИТМ) расположены в Зеленограде и входят в группу компаний "Элемент".

Создание микросхем не исчерпывается процессами ПХО и ПХТ, однако оборудование для химического травления и осаждения необходимо для 50% операций в цепочке производства интегральных схем.