Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Эти установки позволят производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм. Об этом сообщили в компании. Институты вошли в число пяти мировых лидеров, обладающих компетенциями в создании и производстве такого оборудования. Основным исполнителем проекта выступил НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых производственных помещений, монтаж и подключение опытных образцов оборудования, разработку технологических процессов и их испытания. НИИТМ, в свою очередь, стал основным соисполнителем, разработав само оборудование и приняв участие в проведении испытаний. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники, отметил замминистра промышленности и торговли РФ Василий
В РФ разработали оборудование для микросхем топологических норм 65 нм
10 декабря10 дек
743
2 мин