Китайская компания представила настольный EUV-источник. Hefei Lumiverse выпустила компактное устройство на основе генерации высоких гармоник, которое уже используется при производстве 14-нм чипов. Вместо громоздких и дорогих систем ASML это устройство лабораторного формата, стоящее в сотни раз дешевле и не подпадающее под экспортные ограничения.
Система работает с фемтосекундным лазером, который воздействует на инертный газ и вызывает излучение когерентного EUV с длиной волны 13,5 нм. Теоретически длину волны можно регулировать в диапазоне от 1 до 200 нм, что делает технологию универсальной, хотя мощность остаётся очень низкой — всего около 1 мкВт, что намного слабее твердотельных устройств с оловянными мишенями. Компенсация заключается в сверхмалом световом пятне, позволяющем достичь необходимой плотности энергии, пусть и за счёт производительности.
Пока такая система подходит для опытных производственных линий и точного контроля качества. Неудивительно, что 80 % клиентов — исследователи, работающие с нанометровыми транзисторами. Однако у Lumiverse есть цель: увеличить мощность до 1 мВт и выйти на рынок коммерческой метрологии.
