Китайские специалисты разработали EUV-сканер на гармонических частотах, который по размерам в тысячи раз меньше традиционных «шкафов» от компании ASML. Китайская компания Hefei Lumiverse Technology разработала первый в мире настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) на основе генерации высоких гармоник (HHG). Этот прибор уже применяется в производстве для создания 14-нм чипов. В отличие от огромных литографических машин ASML, которые стоят более $100 млн и имеют размеры автобуса, новое устройство компактно и помещается на обычном лабораторном столе, а также значительно дешевле. @partygarage
Китайские специалисты разработали EUV-сканер на гармонических частотах, который по размерам в тысячи раз меньше традиционных «шкафов» от компании ASML.
Китайская компания Hefei Lumiverse Technology разработала первый в мире настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) на основе генерации высоких гармоник (HHG). Этот прибор уже применяется в производстве для создания 14-нм чипов. В отличие от огромных литографических машин ASML, которые стоят более $100 млн и имеют размеры автобуса, новое устройство компактно и помещается на обычном лабораторном столе, а также значительно дешевле.
