Американская компания Substrate привлекла инвестиции в размере $100 млн, включая средства от известного венчурного фонда Founders Fund, и получила оценку в $1 млрд, что свидетельствует о высоком доверии инвесторов к её инновационным разработкам. Компания представила революционную альтернативу оборудованию ASML — литографию с использованием коротковолнового рентгеновского излучения, генерируемого ускорителем частиц.
По словам представителей Substrate, их технология обеспечивает качество печати, сопоставимое с передовыми системами ASML EUV, но при этом обладает рядом преимуществ. Благодаря длине волны менее 13,5 нм, новая литография отличается повышенной надёжностью и стабильностью работы. Кроме того, использование рентгеновского излучения позволяет значительно снизить затраты на эксплуатацию по сравнению с традиционным EUV-оборудованием ASML, что может сделать производство микрочипов более экономичным и доступным.
Уже несколько ведущих экспертов отрасли охарактеризовали технологию Substrate как впечатляющую и перспективную, отмечая её потенциал изменить рынок полупроводников и ускорить развитие микроэлектроники.
Следите за новостями и будьте в курсе самых передовых технологий вместе с @techogid!
