Samsung планирует потратить 773 миллиона долларов на приобретение двух литографов ASML Twinscan EXE:5200B — это самые современные устройства для производства микрочипов. Первый аппарат будет поставлен в 2025 году, а второй — в начале 2026 года. Их будут использовать для изготовления 2-нанометровых процессоров Exynos 2600 и чипов искусственного интеллекта для Tesla.
Сканеры с высокой числовой апертурой (High-NA) обеспечивают примерно в 1,7 раза более точную литографию по сравнению с обычными EUV. В отличие от Samsung, компания TSMC отказалась от использования High-NA для 1,4-нанометрового техпроцесса A14 — для него достаточно старых EUV-технологий. Intel же, наоборот, увеличивает заказ на оборудование High-NA, чтобы подготовиться к процессу 14A.
