В отечественной микроэлектронике произошло событие, значение которого трудно переоценить: подписан первый договор на поставку российского фотолитографа. Подписание произошло 23 сентября в Сочи во время форума «Микроэлектроника 2025». Поставщиком первой за всю историю российской «установки совмещения и проекционного экспонирования» является Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), ну а первым заказчиком — АО «Отраслевые решения», входящее в состав группы компаний «Элемент», лидера российской полупроводниковой промышленности.
Фотолитограф — это ключевое (и самое дорогое) производственное оборудование полупроводниковых фабрик, при помощи которого осуществляется перенос рисунка интегральной схемы с фотошаблона на полупроводниковую пластину, покрытую светочувствительным материалом — фоторезистом. Российская машина использует источник излучения (твердотельный лазер), генерирующий ультрафиолетовый свет с длиной волны 365 нм. Это позволяет использовать такие машины для изготовления микросхем с проектной топологической нормой 350 нм.
Российский литограф представляет из себя степпер, при работе которого рабочий столик с полупроводниковой пластиной перемещается в пошаговом режиме. В момент остановки происходит экспонирование (засветка) маленького участка пластины светом, прошедшим через прорези фотошаблона (трафарета). И так шаг за шагом пластина покрывается прямоугольниками чипов, представляющими из себя многократно уменьшенную оптической системой копию фотошаблона. Точнее сказать, за один проход на пластину переносится только один слой чипов. Поскольку современные чипы представляют из себя многослойную констукцию, то количество слоёв, проходов и фотошаблонов может измеряться многими десятками.
Следует отметить, что в советские годы фотолитографы у нас в стране производились только на минском заводе «Планар». Лучшее разрешение установок, которое было достигнуто в те времена, составляло 800 нм. Собственно именно фотолитографические машины с таким разрешением минчане продолжали успешно поставлять все постсоветские годы. Причём как в Россию, так и в различные дальневосточные страны.
В последние годы белорусские коллеги усовершенствовали свою технику и вышли на уровень пресловутых 350 нм. Тут к делу и подключились специалисты ЗНТЦ (созданного при Национальном университете МИЭТ): взяв за основу белорусскую машину, зеленоградцы смогли увеличить максимальный диаметр обрабатываемой пластины (со 150 мм до 200 мм) и площадь рабочего поля (с 3,2х3,2 мм до 22х22 мм).
Договор был подписан генеральным директором ЗНТЦ Анатолием Ковалевым и генеральным директором «Отраслевых решений» Дмитрием Ершом. Помимо самой поставки он предусматривает монтаж и пусконаладочные работы. Компания «Отраслевые решения» былы создана в 2022 году в подмосковном Зеленограде. В её планах заняться локализацией в России силовой электроники. Цена машины по этому конкретному договору не афишируется, но несколько месяцев назад г-н Ковалёв сообщал, что примерная стоимость такого фотолитографа находится в районе 4,5 миллионов долларов.
Впервые о создании российского фотолитографа широкой общественности стало известно весной прошлого года после заявления Заместителя министра промышленности и торговли РФ Василий Шпака. Тогда чиновник проинформировал общественность, что машина создана и проходит испытания. Уже этой весной сам ЗНТЦ заявил о завершении опытно-конструкторских работ и приёмки фотолитографа государственной комиссией. Но, конечно, заключение контракта на поставку — именно то событие, которое открывает отечественной машине широкую дорогу в светлое будущее.
Интерес к этой машине проявляют и другие потенциальные заказчики. Не так давно минский завод «Интеграл», лидер полупроводниковой промышленности Белоруссии (а в своё время — один из передовиков советской микроэлектроники), озвучивал желание в числе первых приобрести фотолитограф российского производства. На форуме «Микроэлектроника 2025» ЗНТЦ также подписал соглашение о сотрудничестве с АО «НЗПП ВОСТОК» (Новосибирским заводом полупроводниковых приборов, основанном ещё в 1949 году), также входящим в ГК «Элемент», предусматривающее отработку на новом фотолитографе технологий для серийного производства фотонных интегральных схем.
Как говорится, большому кораблю — большое плавание.
Статью про разработку российского EUV фотолитографа на основе ксенона можно прочитать в премиум-разделе канала «Фотолитограф»: