Добавить в корзинуПозвонить
Найти в Дзене

Отечественный фотолитограф: новый этап развития микроэлектроники в России

На профессиональном форуме «Микроэлектроника 2025» состоялось подписание договора между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» (группа «Элемент») о поставке первой отечественной установки фотолитографии с разрешением 350 нм. Разработанная установка предназначена для проекционного переноса изображений с фотошаблонов на полупроводниковые пластины. Оборудование позволяет создавать сверхбольшие интегральные схемы с проектной топологической нормой 350 нм, что соответствует современным требованиям микроэлектронной промышленности. Создание фотолитографа реализовано в рамках государственной программы по локализации производства микросхем в России. Проект реализован при участии белорусского предприятия ОАО «Планар». Установка предназначена для модернизации существующих и создания новых микроэлектронных производств. По словам генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва, успешное создание установки с разрешением 350 нм создаёт основу для разработки бо
Оглавление

Подписание договора на форуме «Микроэлектроника 2025»

На профессиональном форуме «Микроэлектроника 2025» состоялось подписание договора между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» (группа «Элемент») о поставке первой отечественной установки фотолитографии с разрешением 350 нм.

Технические характеристики и назначение

Разработанная установка предназначена для проекционного переноса изображений с фотошаблонов на полупроводниковые пластины. Оборудование позволяет создавать сверхбольшие интегральные схемы с проектной топологической нормой 350 нм, что соответствует современным требованиям микроэлектронной промышленности.

Особенности проекта

Создание фотолитографа реализовано в рамках государственной программы по локализации производства микросхем в России. Проект реализован при участии белорусского предприятия ОАО «Планар». Установка предназначена для модернизации существующих и создания новых микроэлектронных производств.

Планы по развитию

По словам генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва, успешное создание установки с разрешением 350 нм создаёт основу для разработки более совершенных отечественных литографов с нормами до 90 нм.

Области применения

Новая технология найдёт применение в следующих сферах:

  • Производство силовой электроники
  • Автомобильная электроника
  • Промышленное оборудование
  • Системы автоматического управления

Значение для отрасли

Создание собственного фотолитографа является важным шагом в развитии отечественной микроэлектроники. Проект демонстрирует возможности российской промышленности в разработке сложного технологического оборудования и способствует укреплению технологического суверенитета страны в сфере производства микроэлектроники.

Новость представлена ООО "Компанией "Элтикс"