На профессиональном форуме «Микроэлектроника 2025» состоялось подписание договора между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» (группа «Элемент») о поставке первой отечественной установки фотолитографии с разрешением 350 нм. Разработанная установка предназначена для проекционного переноса изображений с фотошаблонов на полупроводниковые пластины. Оборудование позволяет создавать сверхбольшие интегральные схемы с проектной топологической нормой 350 нм, что соответствует современным требованиям микроэлектронной промышленности. Создание фотолитографа реализовано в рамках государственной программы по локализации производства микросхем в России. Проект реализован при участии белорусского предприятия ОАО «Планар». Установка предназначена для модернизации существующих и создания новых микроэлектронных производств. По словам генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва, успешное создание установки с разрешением 350 нм создаёт основу для разработки бо
Отечественный фотолитограф: новый этап развития микроэлектроники в России
25 сентября 202525 сен 2025
214
1 мин