Китайский чипмейкер SMIC, находящийся под санкциями США, уже научился производить 7-нм процессоры на неподходящих станках. Но, как утверждает отраслевой аналитик Уильям Хо, недавно компания взяла новую высоту и создала условия для печати 5-нанометровых чипов на всё том же формально устаревшем оборудовании.
Другие вендоры используют для производства 5-нм продукции современные машины для фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV), но SMIC не может приобрести их из-за торговых ограничений. Зато, если верить источнику, компания научилась работать со старыми машинами стандарта DUV для создания подходящих пластин.
«СРОЧНО: Китай создал 5-нанометровые чипы без EUV. Осознайте это. Без ASML. Без Nikon. Только грубая сила DUV, продуманная инженерия и чистая промышленная воля. Закон Мура не умер. Он переехал в Шанхай», — сообщил Уильям Хо.
Аналитик утверждает, что SMIC уже создаёт 5-нанометровые пластины на тех же DUV-станках, имитируя EUV-процесс с помощью нескольких этапов печати и травления в сочетании с очень сложным процессом самонастраивающейся четырёхслойной печати (SAQP). Из-за этого себестоимость и риск возникновения брака возрастают, но такой способ производства позволяет компании выпускать более современную продукцию даже в условиях санкций.