Производственные и административные корпуса брянского предприятия по производству электронной техники «Группы Кремний Эл» подверглись атаке беспилотников ВСУ. В результате нарушено энергоснабжение, нанесен ущерб объектам обеспечения спецэнергетикой, прерваны технологические производственные цепочки, сообщил 21 октября гендиректор группы Олег Данцев.
Нападение произошло, вероятно, еще 19 октября. На следующий день губернатор Брянской области Александр Богомаз сообщал об уничтожении 17 дронов, один из которых, по его данным, попал в нежилое здание.
Гендиректор группы Олег Данцев заявил, что с возобновление работы предприятия не будет простым: «есть сложности с покупкой запасных частей для восстановления технологического оборудования и энергетической инфраструктуры; строители проводят экспертизу возможности восстановления разрушений».
Это не первая атака беспилотников на завод «Кремний Эл». Местные СМИ сообщали о нападениях в августе, сентябре и декабре 2023 года.
АО «Группа Кремний Эл», как следует из информации на сайте компании, – одно из крупнейших предприятий микроэлектроники в России. Предприятие выпускает интегральные микросхемы, дискретные полупроводники, кремниевые структуры, силовые модули для 815 предприятий.
В 2019 году «Группа Кремний эл» запустила серийное производство изделий микроэлектроники с проектными нормами 500 нанометров, в планах предприятия – переход на 350 нанометров. Для сравнения, на Тайване научились делать процессоры на 2нм, в России к 2030 году начнут разработку программы для проектировки процессоров 28 нм.
АО «Группа Кремний Эл» было основано в 2001 году. Последний раз финансовая отчетность была опубликована за 2018 год, тогда предприятие получило 2,6 млрд руб. выручки и 158 млн рублей чистой прибыли.
В группе работает более 1700 человек. Продукция, по данным компании, поставляется 815 предприятиям. Компания активно участвует в госзакупках. С момента основания она одержала победу в 632 тендерах на общую сумму 2,7 млрд рублей. В 2021 году выиграла субсидии Минпромторга на разработку технологии изготовления кремниевых структур с диэлектрической изоляцией и современных микросхем в малогабаритных и безвыводных корпусах.