Согласно документу, опубликованному на сайте Министерства промышленности и информационных технологий Китая, страна разработала собственный сканер DUV (литография при помощи глубокого ультрафиолета) для производства чипов. Это происходит на фоне последних санкций правительства Нидерландов, требующих от ASML получения лицензий перед продажей старых машин для производства чипов на основе DUV.
Машины для производства чипов стали ценным товаром для Китая, так как новейшее оборудование производится только ASML. Однако отечественная китайская машина может помочь стране снизить зависимость от западных продуктов в развитии ключевой отрасли, особенно в эпоху, когда ИИ требует новейших полупроводников для максимальной производительности.
В документе описываются три ключевые характеристики новейшей китайской литографической машины DUV: разрешение, длина волны и наложение. Сканер использует аргон-фторидную технологию, которая применяется в мировой полупроводниковой промышленности около двух десятилетий.
Он использует длину волны света 193 нанометра и может печатать чипы с разрешением 65 нанометров. Такое разрешение было доступно клиентам голландского гиганта по производству оборудования для чипов ASML в 2009 году.
Ближайшим аналогом ASML считается сканер TWINSCAN XT:1460K — эта машина также имеет разрешение менее 65 нанометров и использует аргон-фторидный источник света с длиной волны 193 нанометра. Однако она все еще более продвинута, чем китайская машина, так как спецификация наложения составляет менее 2,5 нанометров, что значительно превосходит 8 нанометров, заявленные китайским министерством.
Несмотря на прогресс, достигнутый Китаем, разработанная машина все еще отстает от современных технологий ASML примерно на 15 лет. Однако, не стоит недооценивать способность китайских инженеров — страна может совершить значительный скачок и ощутимо сократить разрыв к 2030 году.