В перспективе планируется выйти на топологию 90-65 нм
Российский литограф, который обеспечит выпуск чипов на 130 нм, будет создан в 2026, в перспективе планируется выйти на топологию 90-65 нм. Об этом сообщил в рамках ВЭФ министр промышленности и торговли РФ Антон Алиханов.
По его словам, Россия является одной из нескольких стран, которые могут создавать собственные литографы. В текущем году уже появился первый с советских времен промышленный образец российского литографа, работающий на топологии 350 нм.
К 2026 году будет создан литограф для работы на топологиях 130 нм. Лазеры для этих устройств также разрабатываются внутри страны. В планах - объявить следующую работу, чтобы выйти на топологию 90-65 нм
— Антон Алиханов, министр промышленности и торговли РФ
Развитие технологии чипов в контексте уменьшения размера техпроцесса в нанометрах является ключевым аспектом эволюции полупроводниковой индустрии. Это связано с достижением большей производительности, энергоэффективности и миниатюризации чипов.
Читать материалы по теме:
Вдвое меньше почтовой марки: в МФТИ создали самую маленькую карту метро в мире
В сотни раз быстрей нейросетей: Россия запустит экспериментальный фотонный процессор