Корейские исследователи разработали метод выращивания полупроводниковых логических схем субнанометрового размера. Команда из Института фундаментальных наук (IBS) утверждает, что удалось вырастить 1D металлические материалы шириной менее 1 нм и разработали из них 2D схемы. По сути, 1D металлы выступили в качестве затвора ультраминиатюрного 2D транзистора.
Эта технология может быть очень важной, так как она превосходит прогнозы, изложенные в Международной дорожной карте для девайсов и систем (IRDS) IEEE. В то время как IEEE прогнозировал, что технология полупроводниковых узлов достигнет около 0,5 нм к 2037 году с длиной транзисторов 12 нм, исследователи IBS продемонстрировали, что 1D MTB (зеркальная двойная граница) затвор может быть всего 3,9 нм.
Чтобы решить проблему ограничений литографического разрешения при уменьшении длины затвора ниже нескольких нанометров, корейские ученые использовали зеркальную двойную границу (MTB) дисульфида молибдена (MoS₂) в качестве электрода затвора, достигнув ширины всего 0,4 нм. Исследователи объясняют, что "1D MTB металлическая фаза была достигнута путем контроля кристаллической структуры существующего 2D полупроводника на атомном уровне, преобразуя его в 1D MTB".
Транзистор на основе 1D MTB также обладает некоторыми преимуществами по сравнению с такими технологиями, как FinFET или GAA. По словам исследователей, их новые транзисторы минимизируют паразитную емкость благодаря своей простой структуре и чрезвычайно узкой ширине затвора", что приводит к большей стабильности.