Корпорация Intel, известная своими инновациями в области производства полупроводников, совершила стратегический ход, выкупив все сканеры High-NA EUV, которые компания ASML планирует выпустить в текущем году.
Сканеры High-NA EUV от ASML являются ключевым элементом в производстве чипов с использованием технологии экстремального ультрафиолета (EUV), которая позволяет создавать более мелкие и сложные структуры на кремниевых пластинах.
Согласно последним данным, Intel уже получила первую партию сканеров Twinscan EXE:50001, а также заключила сделку на приобретение шести из десяти доступных машин Twinscan EXE:52002. Эти устройства обладают числовой апертурой 0.55, что обеспечивает разрешение в 8 нанометров, значительно улучшая возможности по сравнению с текущими EUV-сканерами, имеющими разрешение в 13 нанометров.
Инвестиции Intel в эти технологии оцениваются примерно в 2 миллиарда долларов, часть из которых будет компенсирована правительством США. Это не только укрепит позиции Intel на рынке, но и способствует развитию технологической индустрии в целом, поскольку High-NA EUV литография считается одним из самых перспективных направлений в производстве полупроводников.
Следует отметить, что такие масштабные инвестиции и стратегические закупки со стороны Intel могут вызвать изменения на рынке, включая возможное увеличение конкуренции между производителями чипов и ускорение разработки новых технологий. Это также может повлиять на цены на конечную продукцию и доступность новейших технологий для потребителей.
