Компания Intel представила новый литейный узел (литографический техпроцесс) Intel 14A, который будет выпускаться с 2026 года. Однако они также работают над узлом Intel 10A, который будет производиться на классе 1 нм и должен поступить в массовое производство к концу 2027 года.
Intel ожидает, что эти новые узлы позволят им стать более независимой коммерческой структурой и конкурировать с TSMC. В настоящее время основная часть производства Intel основана на узлах Intel 7, использующих DUV, но они планируют перейти на узлы с EUV.
Intel прогнозирует рост использования узлов на основе EUV и ожидает, что объемы пластин Intel 20A и 18A превысят объемы Intel 4 и Intel 3 к 2025 году. Компания также говорит о следующей волне автоматизации фабрик, в которой искусственный интеллект будет использоваться для замены людей на более ответственных должностях в чистой комнате.
