Intel обновила свой план развития производства чипов, включив в неё новый технологический процесс 14A, который будет использовать передовые EUV литографические машины ASML с увеличенной апертурой оптической системы High-NA, передаёт Guru3D. Об этих разработках было рассказано во время прямой трансляции IFS Connect. Помимо технологии 14A была представлена её расширенная версия 14A-E, но подробности о ней пока не раскрываются.
Источник изображения: Intel Corporation
Intel уже получила первые партии испытательного оборудования ASML с увеличенной апертурой оптической системы. Компания ещё не опубликовала конкретные показатели производительности и плотности транзисторов для технологии 14A, а график начала производства не подтверждён. Тем не менее, тестовое производство версии 14A-E запланировано на 2027 год.
В плане компании также представлены дополнительные варианты техпроцесса, отмеченные различными суффиксами: E означает наличие дополнительных функций, T применение сквозных соединений TSV, P улучшения для повышения производительности. Планируются и другие комбинации. Всё это соответствует современному подходу других лидеров отрасли таких как TSMC и Samsung, к удовлетворению различных потребностей клиентов.
Intel реализует несколько инициатив в области разработки, включая серию Intel 3 и сотрудничество с UMC над 12-нм технологией. Компания Intel Foundry, переименованная в Intel Foundry Services, расширяет свою клиентуру, реализуя крупные проекты, такие как производство чипов для Microsoft с использованием техпроцесса 18A.
Новый план Intel подчёркивает большое внимание компании к передовым производственным возможностям и расширению партнёрства в стремлении занять лидирующее положение в отрасли.
