Легирование является важным процессом при производстве транзисторов, поскольку оно позволяет контролировать электрические свойства полупроводниковых материалов. Вводя примеси в полупроводник, можно регулировать концентрацию носителей заряда (электронов или дырок), что, в свою очередь, влияет на проводимость материала.
Существует два типа легирования: n-тип и p-тип. При легировании n-типа добавляются примеси с большим количеством валентных электронов, чем у полупроводникового материала, что приводит к избытку электронов. Следовательно, эти дополнительные электроны могут перемещаться внутри материала, увеличивая его проводимость. Обычные примеси n-типа включают фосфор и мышьяк, у которых пять валентных электронов по сравнению с четырьмя у кремния. С другой стороны, при легировании p-типа добавляются примеси с меньшим количеством валентных электронов, чем у полупроводникового материала, что создает дефицит электронов или избыток дырок. Эти дырки могут принимать электроны от соседних атомо