Нидерландская компания ASML, лидер в области производства литографического оборудования для чипов, делает большой шаг в будущее полупроводниковой индустрии. Первый литографический сканер с высокой числовой апертурой (High-NA) уже отгружен Intel в декабре прошлого года, но его массовое применение в производстве начнется с 2026-2027 года. Это оборудование позволит значительно уменьшить размеры полупроводниковых элементов, увеличив плотность транзисторов в три раза.
💡 КЛЮЧЕВЫЕ МОМЕНТЫ:
- Сканеры нового поколения High-NA от ASML начнут массово использоваться с 2026-2027 года.
- ASML уверена, что новое оборудование обеспечит экономическую отдачу гораздо раньше, чем предполагают аналитики.
- Крупнейшие производители, включая Samsung и TSMC, проявляют интерес к технологии, но внедрение будет зависеть от экономической целесообразности.
- Одна система стоит около $380 млн, и ASML планирует наладить выпуск до 20 таких систем ежегодно к 2028 году.
🌐 Этот шаг открывает новые горизонты для развития технологий и подтверждает стремление индустрии к созданию более мощных и эффективных устройств. Оставайтесь с нами, чтобы следить за последними новостями в мире технологий!
Источник: Reuters