В современном мире есть совсем немного вещей, которые по праву можно назвать «жизненно важным воздухом», без которого прогресс в отдельно взятой стране просто задохнётся, – это способность производить собственные микрочипы и доступ к широкой номенклатуре редкоземельных металлов. Без первого невозможно достичь технологической независимости, поскольку вся бытовая технологическая продукция использует чипы – начиная от микроволновок и заканчивая высокоточными ракетами и мощными игровыми видеокартами. А в свете ведения Западом открытой торговой войны против России, проблема полностью локализованного в России производства критически важных микрочипов выходит на совершенно новый уровень.
И это осознают власти Российской Федерации – так, Минпромторг России ставит амбициозную задачу: наладить к 2027 году производство 28-нм чипов, а к 2030 году – процессоров по топологии 14-нм. Переход на 14-нм и 28-нм чипы позволит не только создать производительные и энергоэффективные процессоры, но и составить конкуренцию иностранным производителям на внутреннем рынке.
На этом поприще произошёл технологический прорыв отечественной науки и техники – в Зеленограде разработали и собрали первый отечественный литограф, позволяющий производить чипы размером до 350 нанометров, а в 2026 году планируется увеличить разрешение до 130 нм. Новый литограф отличается увеличенной площадью рабочего поля – до 22х22 мм – и максимальным диаметром обрабатываемых пластин – до 200 мм. Впервые в российском оборудовании используется твердотельный лазер вместо ртутной лампы. Разработка велась совместно с белорусской компанией «Планар» при поддержке Минпромторга. ЗНТЦ адаптирует процессы под нужды потребителей и ведёт переговоры о поставках установок, в том числе для компании «Микрон».
На сегодняшний день в мире есть всего несколько стран способных производить литографическое оборудование:
• Нидерланды – компания-монополист ASML
• Япония – Canon и Nikon
• США – Zyvex Labs
• КНР – Институт оптоэлектроники Китайской академии наук
Но что такое литография? Литография – это фундаментальный процесс в микроэлектронной промышленности, обеспечивающий формирование микроскопических и нанометровых структур на поверхности полупроводниковых материалов. Этот метод является неотъемлемым этапом производства интегральных схем (микросхем), которые лежат в основе современных электронных устройств, включая микропроцессоры, устройства памяти и другие компоненты.
А монополистом в области производства чипов до недавнего времени оставался Тайвань. Поэтому разработка первого отечественного литографа — это не только техническое достижение, но и значимый этап на пути к технологическому суверенитету страны. Прогресс в этой области способствует укреплению её экономической и национальной безопасности.
В обозримом будущем Россия планирует внедрить отечественный литограф с технологической нормой 130 нм. Этот шаг, безусловно, станет важным этапом на пути к сокращению технологического отставания от передовых мировых производителей микроэлектроники. По оценкам экспертов, введение подобного оборудования позволит снизить разрыв с 30 до 20–15 лет, что является значительным прогрессом в условиях современных геополитических и технологических вызовов.
Развитие собственной литографической базы имеет стратегическое значение для обеспечения технологической независимости страны. Успешная реализация проекта по созданию степпера 130 нм с возможностью выхода на уровень 65 нм станет важным шагом не только в сокращении технологического отставания, но и в укреплении национальной микроэлектронной индустрии.Литографическая заря российского хайтека
В современном мире есть совсем немного вещей, которые по праву можно назвать «жизненно важным воздухом», без которого прогресс в отдельно взятой стране просто задохнётся, – это способность производить собственные микрочипы и доступ к широкой номенклатуре редкоземельных металлов. Без первого невозможно достичь технологической независимости, поскольку вся бытовая технологическая продукция использует чипы – начиная от микроволновок и заканчивая высокоточными ракетами и мощными игровыми видеокартами. А в свете ведения Западом открытой торговой войны против России, проблема полностью локализованного в России производства критически важных микрочипов выходит на совершенно новый уровень.
И это осознают власти Российской Федерации – так, Минпромторг России ставит амбициозную задачу: наладить к 2027 году производство 28-нм чипов, а к 2030 году – процессоров по топологии 14-нм. Переход на 14-нм и 28-нм чипы позволит не только создать производительные и энергоэффективные процессоры, но и составить конкуренцию иностранным производителям на внутреннем рынке.
На этом поприще произошёл технологический прорыв отечественной науки и техники – в Зеленограде разработали и собрали первый отечественный литограф, позволяющий производить чипы размером до 350 нанометров, а в 2026 году планируется увеличить разрешение до 130 нм. Новый литограф отличается увеличенной площадью рабочего поля – до 22х22 мм – и максимальным диаметром обрабатываемых пластин – до 200 мм. Впервые в российском оборудовании используется твердотельный лазер вместо ртутной лампы. Разработка велась совместно с белорусской компанией «Планар» при поддержке Минпромторга. ЗНТЦ адаптирует процессы под нужды потребителей и ведёт переговоры о поставках установок, в том числе для компании «Микрон».
На сегодняшний день в мире есть всего несколько стран способных производить литографическое оборудование:
• Нидерланды – компания-монополист ASML
• Япония – Canon и Nikon
• США – Zyvex Labs
• КНР – Институт оптоэлектроники Китайской академии наук
Но что такое литография? Литография – это фундаментальный процесс в микроэлектронной промышленности, обеспечивающий формирование микроскопических и нанометровых структур на поверхности полупроводниковых материалов. Этот метод является неотъемлемым этапом производства интегральных схем (микросхем), которые лежат в основе современных электронных устройств, включая микропроцессоры, устройства памяти и другие компоненты.
А монополистом в области производства чипов до недавнего времени оставался Тайвань. Поэтому разработка первого отечественного литографа — это не только техническое достижение, но и значимый этап на пути к технологическому суверенитету страны. Прогресс в этой области способствует укреплению её экономической и национальной безопасности.
В обозримом будущем Россия планирует внедрить отечественный литограф с технологической нормой 130 нм. Этот шаг, безусловно, станет важным этапом на пути к сокращению технологического отставания от передовых мировых производителей микроэлектроники. По оценкам экспертов, введение подобного оборудования позволит снизить разрыв с 30 до 20–15 лет, что является значительным прогрессом в условиях современных геополитических и технологических вызовов.
Развитие собственной литографической базы имеет стратегическое значение для обеспечения технологической независимости страны. Успешная реализация проекта по созданию степпера 130 нм с возможностью выхода на уровень 65 нм станет важным шагом не только в сокращении технологического отставания, но и в укреплении национальной микроэлектронной индустрии.