Ещё до того, как США решили ввести против Китая масштабные санкции в сфере высоких технологий, китайские власти инвестировали в полупроводники значительные суммы. Благодаря этому удалось подготовить много профессионалов, которые сегодня создают новые технологии. В целом, по большей части работа сводится к копированию, но так было ещё совсем недавно, ведь в настоящее время доступ к самому совершенному оборудованию для китайцев закрыт. В итоге этим ребятам приходится придумывать велосипед, а эксперты рассказали, каким образом SMIC не только освоила 5-нм технологические нормы, но и готова в ближайшие годы перейти на невероятные 3 нанометра. Это позволит китайской компании сократить отставание от TSMC и Samsung до минимума, что считается значительным прорывом. Несмотря на такие достижения эксперты отмечают, что китайские инженеры пока не способны создавать оборудование для производства чипов самостоятельно. Недавно в прессе писали о разработке китайского литографа для производства чипов по 28-нм технологическому процессу, но точных данных о том, когда оборудование станет доступно заказчикам, пока нет.
Но если Китай уже освоил высокоточные техпроцессы, а также закупил огромное количество нужного оборудования, то Россия в этом плане сильно отстаёт. В стране нет возможности выпускать массовые продукты на базе сильно устаревшего 65-нм технологического процесса, а разработка литографа – это одна из наиболее важных задач следующих лет. Считается, что прибор всё же будет создан, но в настоящее время подобная инициатива сталкивается со значительными сложностями, поскольку санкции оказывают сильное давление на возможности закупки тех или иных комплектующих. Похоже, создание отечественных литографов затягивается, но не отмечается. Как стало известно, специалисты Института ядерной физики (ИЯФ) имени Г.И. Будкера СО РАН (Новосибирск) рассказали о планах по восстановлению технологического накопительного комплекса (ТНК) в Зеленограде. Всего на это уйдёт не больше трёх лет, о чём сообщил директор ИЯФ академик РАН Павел Логачёв.
По его словам, ТНК будет использован для разработки отечественной технологической цепочки производства микроэлектроники. Этот комплекс будет главным инструментом для создания, тестирования и улучшения технологии литографии, которую в мире использует только одна компания. Академик отметил, что комплекс запустят через три года и он станет основой для разработки отечественного литографа. Логачёв подчеркнул важность создания необходимых средств разработки, чтобы поддержать полупроводниковые компании и государственные институты в разработке национального оборудования для микроэлектроники. Стоимость проекта оценивается примерно в 500 миллионов рублей, тогда как создание ТНК с нуля обошлось бы в 10 миллиардов рублей. Также сотрудники ИЯФ СО РАН уже начали совместную работу с учёными Центрального научно-исследовательского института точного машиностроения в Зеленограде по созданию промышленного ускорителя ионов для отечественного имплантора. Этот имплантор с помощью пучков ионов внедряет необходимые химические элементы в полупроводниковую пластину на нужную глубину для создания микросхем.
Финансирование создания отечественной технологии производства микроэлектроники будет осуществляться из разных источников, включая Минпромторг России, Курчатовский институт и правительство Москвы. Технологический накопительный комплекс, он же синхротрон, представляет собой кольцевой ускоритель, вдоль которого в вакууме движется пучок электронов со скоростью, близкой к скорости света. В результате такого движения по изогнутой траектории возникает рентгеновское излучение, которое позволит понять сложные химические реакции в структуре вещества. Исследования с помощью синхротрона позволяют рассмотреть атомную структуру вещества и проследить интенсивные процессы, происходящие на атомарном уровне. Синхротрон в Зеленограде, изначально созданный для советской микроэлектроники, является одним из инструментов развития технологий в этой области. Первоначально его использование предполагалось для создания сверхбыстрых интегральных схем и исследования физики поверхности вещества. ТНК был разработан в период с 1980 по 1990 годы, но после развала Советского Союза установка так и не была запущена. Ожидать значительных прорывов в ближайшие годы не стоит, но есть все основания полагать, что к концу текущего десятилетия в России появятся собственные литографы. Вопрос лишь в том, насколько они окажутся актуальными, ведь уже сегодня ведущие компании рассматривают возможности перехода на 2-нм нормы, тогда как в планах у российских учёных 28-нм технологический процесс.