Покрытие PVD (физическое осаждение из паровой фазы) – физическая терминология, которую, казалось бы, трудно понять, на самом деле тесно связана с нашей повседневной жизнью. Ваши красивые украшения, дорогая камера и острые ножи могут иметь PVD-покрытие. Если вы хотите узнать больше о PVD-покрытии, продолжайте читать.
Что такое PVD-покрытие?
Покрытие PVD, или физическое осаждение из паровой фазы, относится к различным методам вакуумного осаждения, при которых твердый металл испаряется для получения тонких пленок и покрытия. Точнее, в условиях высокого вакуума твердый металл сначала переходит в парообразное состояние, а затем снова осаждается на другие материалы в твердом состоянии. PVD-покрытие имеет множество преимуществ, таких как хорошая долговечность, широкое применение и меньшее загрязнение окружающей среды, поэтому в настоящее время оно все чаще используется для различных целей.
Декоративное покрытие
PVD-покрытие широко используется в декоративных целях благодаря красивым и разнообразным металлическим цветам. В часовой промышленности TiN используется для покрытия золотого цвета, а Cr2N — для покрытия серебряного цвета. PVD-покрытие также обеспечивает другие виды металлических цветов, такие как розовое золото, дымчато-серый, пурпурно-бронзовый и так далее. Помимо часов, некоторые детали мобильных телефонов, украшения, игрушки, кнопки также используют PVD-покрытие в декоративных целях.
Оптическое покрытие
Применение PVD-покрытия в оптических покрытиях включает просветляющее покрытие в камерах, высокоотражающее покрытие в солнечном приемнике, оптических накопителях на дисках и так далее.
Защитное покрытие
PVD-покрытия более твердые и устойчивые к коррозии, поэтому их можно использовать в защитных целях. Например, TiN, TiC и c- BN часто используются в качестве твердой пленки в режущих и абразивных инструментах. В комплект также входят защитная пленка от коррозии, смазочная пленка и термозащитная пленка.
Электрическое покрытие
PVD-покрытие можно использовать для производства проводящих материалов и диэлектрических тонкопленочных материалов в полупроводниковых устройствах и интегральных схемах, сверхпроводящих тонких пленок и пленок ITO.
