Более 300 млн долларов составляет стоимость литографических сканеров последнего поколения, самых сложных устройств массового производства в мире. Они необходимы для того, чтобы процессоры смартфонов и компьютеров становились все круче. Поэтому, несмотря на непомерную цену такого оборудования, потенциальные покупатели спорят о том, кто, сколько и когда сможет купить.
Стало известно, что из первых десяти литографических сканеров последнего типа EUV High-NA шесть зарезервированы Intel. В сочетании с аналогичным оборудованием первого поколения, которую планировалось установить в лабораториях Intel к концу этого года, это позволит получить парк из семи EUV High-NA к концу следующего года, что в денежном выражении превысит 2 млрд долларов. Следует отметить, что Intel заказала первый сканер еще в 2018 году.
Кстати, данный сканер настолько большой, что для его перевозки требуется 13 контейнеров размером с грузовик и 250 ящиков. После сборки оборудование достигает высоты трех этажей, что заставило компанию Intel построить новое, еще более высокое производственное здание исключительно для его размещения.
Идет ожесточенная борьба за приобретение оставшихся четырех сканеров. Вопрос настолько важен, что глава Samsung Ли Джэ Ён лично отправился в Нидерланды. После возвращения он заверил, что ему удалось обеспечить себе место в приоритетной очереди для оборудования производства ASML, которое будет использоваться в корейском 2-нм техпроцессе. Вероятно, переговорам способствовало подписание ранее соглашения на сумму около 750 млн долларов о совместном строительстве корейского исследовательского центра.
Очевидно, что Intel и Samsung очень хотят догнать крупнейшего игрока на рынке производства самых современных чипов, а именно тайваньскую компанию TSMC, которая пока мало что говорит о EUV High-NA литографии. Это и неудивительно, ведь планы TSMC не только более консервативны, чем у Intel и Samsung, но и, кроме того, по различным оценкам, использование новейших машин ASML будет иметь финансовый смысл только в процессах класса 1 нм и меньше, в то время как грядущие процессы класса 2 нм и больше могут спокойно и эффективно использовать существующее оборудование.
