ASML Holding NV объявила о начале поставок ключевых компонентов своего нового поколения микрочиповых машин для Intel Corp. Новая система high-NA экстремального ультрафиолета была доставлена на завод Intel D1X в Орегоне, по словам источников, знакомых с ситуацией, но желающих остаться анонимными.
Технология является критической для обоих компаний, которые являются ключевыми участниками полупроводниковой индустрии. Генеральный директор Intel Пэт Гелсингер заявил, что его компания получит первую машину нового поколения, подтверждая свое стремление вернуться в лидеры в области технологий производства. ASML, в свою очередь, стремится сохранить зависимость отрасли микрочипов от своего оборудования, внедряя новейшие технологии.
Согласно заявлению ASML прошлого года, Intel планирует начать производство системы в 2025 году. Завод D1X - это площадка, на которой Intel разрабатывает и усовершенствует свои будущие технологии производства.
ASML - ведущий мировой производитель литографических систем, которые являются ключевыми компонентами процесса создания полупроводников. Они являются единственным производителем систем литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне, используемых Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Samsung Electronics Co. и Intel для самых современных процессов производства.
"Мы гордимся и рады поставке нашей первой системы EUV с high-NA для Intel", - сообщила ASML в социальной сети X.
Аналитики Oddo BHF ранее в этом месяце уточнили, что стоимость первой модели Twinscan EXE: 5200 литографической машины с high-NA экстремального ультрафиолета от ASML составит около €250 миллионов. Встреча с представителями компании позволила аналитикам определить, что второе поколение EUV-системы с high-NA, известной как EXE: 5200B, будет обладать более высокой производительностью и ценой, превышающей €350 миллионов. ASML взимает около $180 миллионов за свои текущие литографические машины верхнего уровня.
