Дуговая ионизация — технологический процесс, разработанный в СССР в 60-х годах. С тех пор он стал более широко использоваться и приниматься в других частях мира. Энергия испарения, а также ионизация используются для достижения цели дугового ионного покрытия. Целью дугового ионного покрытия является покрытие заготовки желаемым материалом, которым обычно является металл. В принципе, дуговое ионное осаждение похоже на другую форму ионного осаждения, известную как дуговое плазменное осаждение. Однако между ними есть небольшие различия. Принцип При дуговом ионном осаждении материал, используемый для покрытия, сначала испаряется в вакууме. Затем он ионизируется с помощью положительных зарядов электрической дуги. Затем материал притягивается к заготовке. За это притяжение ответственны положительные заряды материала и отрицательные заряды заготовки, поскольку противоположные заряды притягиваются. Материал бомбардируется заготовкой на очень высокой скорости. Впоследствии на заготовке образуется
Введение в вакуумно-дуговое нанесение покрытие
24 декабря 202324 дек 2023
58
3 мин