Исследователи центра "Передовые цифровые технологии" СПбПУ разработали технологический комплекс, с помощью которого можно создавать наноструктуры для микроэлектронного оборудования. Об этом 3 октября рассказали в Минобрнауки РФ.
Комплекс состоит из двух установок: безмасочной нанолитографии и плазмохимического травления кремния. Как подчеркнули в министерстве, разработка поможет в обеспечении технологического суверенитета страны в сфере микроэлектроники.
Как пишет РИА Новости, первый этап создания наноструктур – процесс литографии. Ученые из Санкт-Петербурга предложили использовать технологию безмасочной нанолитографии, то есть получать изображение на подложке без использования маски (шаблона). Второй этап – плазмохимическое травление по созданному рисунку. Отмечается, что применение такой методики в несколько раз продлит срок службы оборудования.
Для работы комплекса было разработано специального программное обеспечение (ПО). Устройство полностью автоматизировали. По оценке ученых, стоимость их установки составит около 5 млн руб., в то время как цена на зарубежные аналоги – до 13 млрд руб.
Специалисты "Передовых цифровых технологий" планируют внедрить в комплекс машинное обучение (Machine learning, ML – класс методов искусственного интеллекта), а также создать технологии для силовой электроники.