Одним из распространенных методов физического осаждения из паровой фазы (PVD) является термическое испарение. Это разновидность тонкопленочного осаждения, представляющая собой вакуумную технологию нанесения покрытий из чистых материалов на поверхность различных объектов. Покрытия, также называемые пленками, обычно имеют толщину от ангстрем до микронов и могут представлять собой один материал или несколько материалов в слоистой структуре. Материалы, наносимые с помощью методов термического испарения, могут представлять собой чистые атомарные элементы, включая металлы и неметаллы, или молекулы, такие как оксиды и нитриды. Объект, на который будет нанесено покрытие, называется подложкой и может представлять собой самые разные вещи, такие как полупроводниковые пластины, солнечные элементы, оптические компоненты или многие другие варианты. Термическое испарение включает в себя нагрев твердого материала внутри камеры высокого вакуума до температуры, обеспечивающей некоторое давление пара. Да