Компания Intel объявила об успешной реализации обратной подачи питания на тестовом чипе, что свидетельствует о том, что она значительно опередила своих конкурентов благодаря новой технологии. Intel продемонстрировала работающий прототип Intel 4 с эффективными ядрами и технологией PowerVia, которая должна появиться в первой половине 2024 года на технологическом узле Intel 20A. Новая система подачи питания устранит несколько узких мест в процессе производства пластин, поскольку компания переходит на более мелкие узлы.
Intel объявила об этом и провела брифинг для СМИ перед своим выступлением на симпозиуме СБИС, который состоится на следующей неделе в Киото, Япония. Нынешняя технология требует, чтобы питание подавалось в транзисторы чипа сверху, что отлично работало на предыдущих «больших» узлах. Однако по мере того, как все становится меньше и к пластинам добавляется больше слоев, проводники могут создавать помехи друг другу, и им приходится прокладывать еще более глубокие "туннели" в микросхемах, чтобы добраться до транзисторов.
На этой диаграмме показаны преимущества технологии PowerVia, которая обеспечивает увеличение плотности, эффективности и производительности, а также упрощает производство.
PowerVia решает эту проблему путем разделения подачи питания и путей передачи данных с помощью переноса подачи питания на обратную сторону пластины. По сути, это создает кремниевый сэндвич, передача данных которого идет сверху, а питание подается снизу. Intel изготовила на заказ чип Intel 4 с эффективными ядрами для проверки концепции и заявляет, что он уже приносит плоды. Например, Intel утверждает, что уже наблюдает более чем 6-процентный прирост производительности на тестовом образце с ядрами E, что, по сути, является "бесплатной" производительностью. Intel также заявляет, что может использовать больше областей кристалла, чем обычный чип Intel 4. Он уже более энергоэффективен, чем обычный процессор Intel 4, с меньшим на 30 % падением IR для более чистой и надежной подачи питания. Кроме того, хотя Intel не говорит, что тепловые характеристики улучшились по сравнению с Intel 4, вероятно, что они такие же. Это хорошая новость, так как генерация тепла в середине чипа, а не сверху, является неизведанной территорией.
Intel не сообщает, что именно она использует для "смягчения теплового воздействия", только то, что пока это соответствует существующим свойствам Intel 4
Ожидается, что Intel внедрит эту технологию в 2024 году, когда она оставит позади FinFET и перейдет в эпоху Angstrom с транзисторами RibbonFET gate-all-around (GAA) на Intel 20A, а затем 18A. Если это произойдет, это будет примерно на два года раньше TSMC, которая заявила, что не добавит эту функцию к своим 2-нм нанолистам как минимум до 2026 года. Пока неясно, когда Samsung сможет внедрить эту технологию, но это будет не скоро.
В настоящее время Intel готовится к запуску Meteor Lake в качестве первой линейки процессоров, использующих Intel 4, ранее 7-нм. После этого идет Intel 3, затем 20A, который будет использоваться для своих процессоров Arrow Lake в 2024 году. У Intel есть много новых чипов и узлов, которые ей нужно выпустить, если она хочет победить TSMC, но, похоже, она уже на пути к этому. Время покажет, сможет ли компания реализовать задуманное в период до следующего года, когда 20A поступит в производство.