Найти тему
Цифровой мир

Еще одна веха в развитии технологий. Скоро начнется производство 3-нм чипов TSMC

Мы медленно приближаемся к моменту, когда достижение более низкого производственного процесса станет проблемой. Однако сегодня из отчета Commercial Times мы узнали, что скоро начнется долгожданное массовое производство 3-нм чипов TSMC, что доказывает, что самые большие проблемы решены.

Производство 3-нм чипов TSMC начнется в сентябре 2022 года.

Согласно вышеупомянутому источнику со ссылкой на производителей оборудования, TSMC начнет массовое производство чипов с использованием своего ведущего техпроцесса N3 (3 нм) в сентябре этого года. Затем в начале следующего года она поставит своим клиентам первые продукты, созданные наN3, нарушив давнюю традицию TSMC..

-2

Однако разработка N3 компании TSMC заняла больше времени, чем обычно, что повлияло на планы Apple продолжать использовать чипы, изготовленные по N5. Также стоит напомнить, что в декабре, согласно отчетам, опубликованным DigiTimes и TechTaiwan , компания Taiwan Semiconductor Manufacturing Company запустила пилотное производство 3-нм чипов (N3) на заводе Fab 18 в Южном тайваньском научном парке недалеко от Тайнаня.

Как сообщалось ранее, первые 3-нм чипы производства TSMC появятся на рынке в начале 2023 года. Речь идет как о смартфонах, так и о устройствах HPC (High-Performance Computing), что является отходом от обычной тактики TSMC, состоящей в том, чтобы иметь дело в первую очередь только с мобильными устройствами. Судя по всему, первыми заказчиками N3 TSMC станут Apple и Intel, но мы не знаем, какие чипы будут производиться по этой новой технологии.

-3

Однако ждать определенно есть чего, ведь 3-нм техпроцесс TSMC — это повышение сырой производительности систем на 10–15 процентов (при том же энергопотреблении и количестве транзисторов), снижение энергопотребления до 30 %. (с теми же тактовыми частотами и сложностью) и обеспечивают до 20% увеличение плотности SRAM по сравнению с 5-нм техпроцессом.

Что мы знаем точно, так это то, что 3-нм техпроцесс TSMC будет использовать экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUVL) для «более 20 слоев» транзисторов. Кроме того, эти системы будут создаваться с использованием технологии FinFlex от TSMC.