Томский государственный университет (ТГУ) начал производство ключевых химических реагентов, необходимых для развития российской микроэлектроники. В рамках химико-технологического центра начали выпускать чистый бромистый водород и тетраксис (диметиламино) титана (TDMAT), что позволит полностью удовлетворить потребности отечественных компаний в этих веществах. Особое значение имеет запуск производства чистого бромистого водорода, который используется для очистки кремниевых пластин — основного материала для микрочипов. Ранее этот реагент поставлялся из-за рубежа, но после прекращения поставок российские специалисты сосредоточились на создании собственной технологии его производства. Работы велись с 2023 по 2024 год под руководством Виктора Сачкова. TDMAT также играет ключевую роль в микроэлектронике, применяясь для нанесения титаново-нитридных покрытий методом химического осаждения из газовой фазы. Кроме того, это соединение востребовано для создания оптических материалов, композитных мат