Институт физики микроструктур РАН представил "Новую концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии". Документ описывает создание литографической установки, которая должна быть экономичнее и проще в производстве, чем оборудование ASML, при сохранении эффективности.
Ключевые особенности российского подхода:
- Уменьшение рабочей длины волны с 13,5 до 11,2 нм
- Замена оловянного лазерно-плазменного источника на ксеноновый
- Использование кремнийорганических резистов
По сравнению с TWINSCAN NXE:3600D от ASML, российский литограф будет иметь меньшую производительность (примерно в 2,7 раза) из-за использования лазера мощностью 3,6 кВт. Однако разработчики считают такую производительность достаточной для небольших производств.
Разработка разделена на три этапа:
- Создание критических технологий и экспериментального образца
- Разработка опытного образца с производительностью более 60 пластин 200 мм в час
- Создание промышленного образца для пластин 300 мм
По мнению руководителя проекта Николая Чхало, попытка копирования литографа ASML нецелесообразна как с технической, так и с экономической точки зрения. Вместо этого предлагается альтернативный подход, который сделает технологию более доступной по цене оборудования и эксплуатации.
Конкретные сроки реализации этапов в документе не указаны.