Микросхемы на сегодняшний день считаются стратегически важным продуктом, для изготовления которого требуется использование ионных имплантеров. Эти устройства решают весьма сложные технологические задачи. В кремниевую пластину на заданную глубину вводятся ионы различных элементов, например, бора или мышьяка. Это позволяет придать пластине нужные свойства полупроводника. «В кремниевую пластину на определенную глубину внедряются слои ионов. Это может быть бор, мышьяк, и они придают пластине нужные свойства полупроводника», ─ пояснил заместитель директора Института ядерной физики СО РАН Евгений Левичев. На протяжении многих лет имплантеры закупались из-за границы, однако введённые санкции стали стимулом для разработки собственных аналогов. К работе подключились специалисты из Новосибирска, которые ещё в 80-х занимались производством подобных устройств. Использовав свой богатый опыт, они быстро создали новый ионный источник. Это изобретение станет базой для прототипа, презентация которого з
В Новосибирске разработают оборудование для выпуска отечественных микросхем
27 декабря 202427 дек 2024
316
2 мин