Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) официально представил первый российский фотолитограф, успешно прошедший госприёмку. Установка с разрешением 350 нм способна создавать микросхемы для базовой электроники — от датчиков до управляющих чипов. Это ключевой шаг в замещении иностранного оборудования, недоступного из-за санкций. Новый литограф превосходит предыдущие отечественные аналоги: площадь рабочего поля выросла в 47 раз (до 22×22 мм), а максимальный диаметр обрабатываемых кремниевых пластин увеличен до 200 мм. Главное новшество — замена устаревшей ртутной лампы на твердотельный лазер. Он не только мощнее, но и долговечнее, что снижает стоимость владения. Разработка велась совместно с белорусской компанией «Планар» в рамках госзаказа Минпромторга. Сейчас ЗНТЦ адаптирует процессы под требования промышленности: идут переговоры с заводами вроде «Микрона» о модернизации производств. Параллельно центр работает над следующим этапом — к 2026 году планирует выпустить литограф с раз
⚡Свои чипы вместо чужих: Россия запустила литограф с разрешением 350 нм. Что дальше?
25 марта 202525 мар 2025
5
1 мин