Если не удается помешать производству, можно помешать проектированию Уже к концу 2021 США стало ясно — ограничить скорость, с которой Китай настигает их в технологической гонке, не удается. Казалось бы, план США сдулся. Но как сказал известный американский эксперт в этой отрасли: «Чтобы победить в этой гонке, США должны либо бежать быстрее, либо сделать подножку Китаю». Сказано — сделано.
В ближайшие недели США введут экспортный контроль за поставкой в Китай программного обеспечения автоматизации проектирования микросхем (EDA). Без него Китай не сможет проектировать новейшую технологию кольцевого затвора gate-all-around FET, GAA FET на 3 нм, а потом и на 2 нм (сейчас у Китая есть лишь технологии на 5 нм).
США делают ставку на то, что компании разработчики EDA (в первую очередь, Synopsys, Cadence и Siemens) потратили не менее 30 лет на накопление опыта в этой области. Шансы на то, что Китай догонит их в краткосрочной перспективе, минимальны. Теперь главный вопрос — упадет ли Китай пос