Стало известно о том, что свой 7-нанометровый техпроцесс, также известный как Intel 4, американская компания разрабатывает согласно утвержденного графика и уже во втором квартале этого года планирует запустить серийное производство чипов по данным технологическим нормам.
Как утверждают в Intel, полупроводниковая продукция, выполненная на основе технологических норм Intel 4 по сравнению с предшествующим Intel 7 (то есть, 10-нм) будет не менее, чем на 20% производительнее при одинаковых потребляемых мощностях, а её теоретическое энергопотребление снизится на 40% при такой же рабочей частоте.
Помимо этого в Intel поделились информацией, что при производстве чипов по 7-нанометровым технологическим нормам Intel 4 компания впервые будет применять на своих фабриках литографию типа EUV, что обеспечит вдвое повысить плотность расположения транзисторов.
Напомним, новейший Intel 4 компания Intel будет применять при производстве процессоров генерации Meteor Lake, что в будущем году сменят на рынке чипы генерации Raptor Lake, официальный релиз которых состоится только осенью текущего года.
