Найти тему

Измерение тока, наведенного лазерным излучением (LBIC)

Измерение токов, индуцированных световым излучением, является хорошо известным методом, в первую очередь, в фотоэлектрическом секторе для пространственно разрешенного измерения рекомбинационно активных дефектов в готовых солнечных элементах.

Процедура основана на измерении локального тока короткого замыкания ISC в элементе, который вырабатывается путем соответствующего возбуждения. Для измерения солнечный элемент локально облучается лазерным излучением. Преимуществами являются простое наращивание и высокое разрешение, недостатком – необходимость контакта с образцом. По этой причине можно исследовать только готовые элементы. В результате имеется возможность оценки срока службы и наличия дефектов.

По измеренному току может быть рассчитана внешняя квантовая эффективность (EQE) по следующей формуле:

Внешняя квантовая эффективность (EQE)
Внешняя квантовая эффективность (EQE)

,где P – мощность лазера, λ – длина волны излучения.

EQE зависит не только от объемных свойств ячейки солнечного элемента, но также и от отражательных свойств поверхности. В случае, если отражением можно пренебречь, то внешнюю квантовую эффективность будут определять следующие механизмы:

  • Рекомбинация неосновных носителей в объеме
  • Рекомбинация неосновных носителей на верхней и нижней поверхностях
  • Шунтирование в солнечном элементе

Внутренняя квантовая эффективность (IQE) включает в себя компоненту отражения света на поверхности и определяется по следующей формуле:

Внутренняя квантовая эффективность (IQE)
Внутренняя квантовая эффективность (IQE)

Для того, чтобы определить диффузионную длину необходимо измерить IQE минимум на четырех длинах волн, которые должны отличаться по глубине проникновения. Величина наклона графика зависимости «1/IQE» от «1/a» является обратной величиной эффективной длины диффузии.

-3

Внутренняя квантовая эффективность солнечного элемента, измеренная на 4 разных длинах волн

-4

Прибор для определения времени жизни носителей эпитаксиальных кремниевых тонкопленочных слоев