Создание маски на стекле. Фотолитография.
Любое изображение можно перенести на стеклянную поверхность. Из наиболее доступных в домашних условиях здесь будут описаны два способа переноса. Точнее, способ матирования изображения один, а вот способа нанесения защитной маски (импровизированного трафарета) опишем два: печать защитной маски принтерным тонером (метод ЛУТ, будет описан ниже) и печать защитной маски с использованием фоторезиста. Для второго способа, наиболее трудоёмкого и дорогостоящего, но и более качественного, используется специальный полимер, называемый ФОТОРЕЗИСТ, который выпускается в двух разных исполнениях: аэрозольный и плёночный.
Аэрозольный фоторезист. Жидкий фоторезист выпускается в аэрозольных баллончиках емкостью 100 мл и 200 мл. Предназначен для изготовления растровых масок - клише на поверхности стекла, металлов, мрамора, гранита методом светового фотопозиционирования.
Работа с аэрозольным фоторезистом производится в такой последовательности.
1. Поверхность промывается нежирным растворителем или чистым спиртом, затем производится напыление фоторезиста с расстояния 15-20 см. Равномерность напыления легко контролировать благодаря темно-фиолетовому цвету фоторезиста, непокрытые участки сразу видны. При появлении таковых производится выборочное покрытие пропущенных участков. Напыление, как и сушку, необходимо производить при слабом электрическом освещении.
2. После напыления стекло оставляют сохнуть при комнатной температуре в темном месте на сутки.
3. Подготовка пленки для засвечивания. Необходимое изображение печатается в чернобелом режиме на струйном или лазерном принтере с разрешением не менее 300 точек на дюйм на специальной прозрачной пленке (продается в магазинах канцтоваров или предприятиях, которые продают расходные материалы для оргтехники). Также можно использовать пленки для фотовывода, можно заказать в типографии.
4. Процесс засвечивания и получения клише-маски. Берется стекло с напыленным фоторезистом после сушки, на напыленную поверхность кладётся прозрачная пленка с отпечатанным изображением в негативе (отпечатком к поверхности материала с фоторезистом), сверху прижимается прозрачным стеклом (органическим или кварцевым, чтобы пропускание УФ лучей было максимальным). Далее на высоте 15 см над поверхностью помещается ультрафиолетовая лампа (экономка с обычным цоколем) мощностью 26 Вт, и включается для засветки резиста на несколько минут (длительность экспозиции подбирается экспериментальным путём и зависит от многих факторов).
5. После засвечивания снимается прижимное стекло, убирается пленка, через которую проводилось засвечивание и производится проявка изображения в растворе каустической соды (7 гр на 1 л воды). Проявляется стекло либо опусканием поверхности в ванночку с раствором, либо поролоновой губкой, смоченной в данном растворе. Проявка длится 1-4 мин. При этом участки, которые на пленке были прозрачными, вымываются, а те, которые черными, наоборот, отвердевают и закрепляются. В итоге получается растровая маска на поверхности.
6. После проявки просушивается в течение 30 мин при комнатной температуре, при этом интенсивность освещения уже значения не имеет.
7. После сушки стекло обрабатывается жидкостью для матирования IVSATIN. После процесса матирования поверхность промывается мыльным раствором.
8. Остатки фоторезистивной маски удаляются в более концентрированном растворе каустической соды (30-40 гр на 1 л воды). Затем следует промывка средством для чистки стекол, и растровое изображение готово.
Пленочный фоторезист.
Описывать работу с плёночным фоторезистом мы не стали. Решили лучше показать в видеоуроке.
Подписаться на бонусную рассылку