Найти в Дзене
Новости и Факты

Россию отрезали от TSMC: что будет дальше с Эльбрусами и Байкалами и каким будет ответ России!

В виду последних событий США запретили тайваньскому контрактному производителю микроэлектроники TSMC осуществлять производство российских процессоров и других микросхем. Руководство TSMC уже отрапортовало, что приступило к исполнению экспортных ограничений и прекратила исполнение уже заключенных ранее контрактов с разработчиками российских микропроцессоров. Означает ли это, что Россия вообще останется без отечественной микроэлектроники? На разных форумах и телеграмм-каналах люди начали писать, что мол ничего страшного не произошло, ведь есть еще китайская фабрика SMIC, на которой по некоторой информации уже производятся китайские процессоры для мобильных телефонов Kirin 710A по техпроцессу 14 нм. Но станут ли китайцы размещать заказы на Эльбрусы и Байкалы на своей фабрике, с учётом того, что Китай сам находится под такими же санкциями и эта фабрика забита заказами, что называется под завязку, от своих же китайских разработчиком микроэлектроники? Выход видится лишь один - начать наконе

В виду последних событий США запретили тайваньскому контрактному производителю микроэлектроники TSMC осуществлять производство российских процессоров и других микросхем. Руководство TSMC уже отрапортовало, что приступило к исполнению экспортных ограничений и прекратила исполнение уже заключенных ранее контрактов с разработчиками российских микропроцессоров.

Означает ли это, что Россия вообще останется без отечественной микроэлектроники?

На разных форумах и телеграмм-каналах люди начали писать, что мол ничего страшного не произошло, ведь есть еще китайская фабрика SMIC, на которой по некоторой информации уже производятся китайские процессоры для мобильных телефонов Kirin 710A по техпроцессу 14 нм.

Но станут ли китайцы размещать заказы на Эльбрусы и Байкалы на своей фабрике, с учётом того, что Китай сам находится под такими же санкциями и эта фабрика забита заказами, что называется под завязку, от своих же китайских разработчиком микроэлектроники?

Выход видится лишь один - начать наконец думать своей головой и рассчитывать только на свои силы! Ведь американцы запретили голландской фирме ASML поставлять в Россию и Китай современные литографические машины.

В России еще в 2017 году был подписан контракт на проведение научных изысканий и исследовательских разработок в области создания безмасочного литографа с разрешением лучше 10 нм. Разработками занималось федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники".

Цель проекта и место в решении проблемы - разработка источника мягкого рентгеновского излучения на основе матрицы микрофокусных рентгеновских трубок, который должен стать основой для создания безмасочного рентгеновского нанолитографа с разрешением лучше 10 нм. В 2020 году все 4 этапа были выполнены!

История развития литографических машин голландской фирмы ASML. ASML - крупнейший мировой разработчик и производитель литографических машин для производства микроэлектронных компонентов по самым современным технологическим процессам.
История развития литографических машин голландской фирмы ASML. ASML - крупнейший мировой разработчик и производитель литографических машин для производства микроэлектронных компонентов по самым современным технологическим процессам.

Давайте посмотрим чего же удалось достичь на данном этапе! Вот что нам сообщают исследователи:

Проведены исследовательские испытания экспериментальных образцов мягкого рентгеновского излучения. Получено: длина волны рентгеновского излучения 11,4 нм; формат матрицы катодных узлов: не менее 300 x 300; шаг столбцов и строк матрицы катодных и анодных узлов менее 3 мкм. Проведены измерения геометрических размеров и интенсивности мягкого рентгеновского излучения пикселей матрицы микрофокусных рентгеновских трубок. Средний размер пикселя составил 370-380 нм. Полная мощность мягкого рентгеновского излучения, генерируемая матрицей микрофокусных рентгеновских трубок составила 2,3 мВт, а средняя мощность излучения одного пикселя 26 нВт. Отработана методика формирования топологического рисунка методом безмасочной рентгеновской литографии с использованием микрофокусных рентгеновских трубок. В резисте ПММА-2 продемонстрирована возможность получения топологических рисунков в виде кружков, имитирующих контактные площадки и полос, имитирующих электрические соединения. Проведены измерения размеров полученных топологических рисунков. Период наноструктур лежит в диапазоне 300,5±3,5 нм, что хорошо соответствует топологическим размерами катодного узла матрицы с учетом десятикратного уменьшения объектива. Диаметры кружков лежат в диапазоне 44,46-49,84 нм. Ширины полос составили меньшую величину, на уровне 32,93-46,62 нм. На топологический размер большое влияние оказывает «недопроявление» и «недоэспонирование» резиста, что указывает на широкое окно оптимизации условий проведения процесса безмасочной рентгеновской литографии с целью минимизации топологических размеров. В целом проведенные эксперименты подтвердили принципиальную возможность получения наноструктур методом безмасочной рентгеновской литографии на базе матрицы микрофокусных рентгеновских трубок.

В настоящий момент ведется работа по созданию экспериментальной литографической установки на основе результатов, полученных в ходе данных исследований. Ясное дело, что еще предстоит пройти долгий путь до получения настоящего промышленного литографа. Но лучше поздно, чем никогда!

-3

Друзья! Канал "Новости и Факты" нуждается в вашей помощи! Вы можете подарить 100 рублей на развитие канала. Помогите проекту!

#Политика #Экономика #санкции #США #Россия #микроэлектроника #микропроцессоры #Эльбрус #Байкал