Найти тему

Технологический потенциал России: далеко ли до лидерства?

Canva.com
Canva.com

Институт статистических исследований и экономики знаний НИУ ВШЭ представляет карту зон технологического лидерства и отставания России, сформированную на основе анализа патентной активности страны в последнее десятилетие.

В последнее десятилетие темп технологического обновления в России заметно снизился. Число патентных заявок на изобретения, поданных отечественными заявителями в стране и за рубежом, за 2010–2019 гг. уменьшилось на 10% на фоне роста патентной активности почти во всех лидирующих странах (кроме Японии).

В результате такого несоответствия глобальным трендам доля России в общемировом потоке патентных заявок сократилась с 1,6 до 0,9%, и по ее величине страна переместилась с 10-й на 12-ю позицию, пропустив вперед Италию и Индию.

ИСИЭЗ НИУ ВШЭ
ИСИЭЗ НИУ ВШЭ

Стагнационные процессы затронули не все технологические области. Анализ тематической структуры патентных заявок позволяет выделить направления, по которым Россия имеет серьезные заделы.

В новой экспресс-информации ИСИЭЗ НИУ ВШЭ подробно описана карта зон технологического лидерства, высокого потенциала и отставания, а также областей-джокеров для России, сформированная на основе анализа патентной активности страны в последнее десятилетие.

ИСИЭЗ НИУ ВШЭ
ИСИЭЗ НИУ ВШЭ