Привет!
Почему кремниевые подложки для изготовления процессоров и микросхем (чипов) делают круглыми, а сами микросхемы - квадратные (или прямоугольные)?
Изготовление кремниевых подложек
Изготовление микросхем начинается с изготовления подложки. Подложка представляет собой тонкую круглую пластину из полупроводника (кремний или германий высочайшей чистоты), изготавливаемую методом Чохральского [1, 2, 3]:
В ёмкость (тигель) с расплавленным кремнием (температура плавления 1414°С) вводится подвешенный затравочный кристалл кремния и нагревается в ней. Затем начинается процесс вытягивания затравочного кристалла в холодную зону вверх (кристалл при этом вращают). При вытягивании кремний принимает форму круглого стержня: в самом начале его диаметр составляет несколько мм, а затем, за счёт снижения температуры и скорости вытягивания, диаметр увеличивают до необходимой величины.
После процесса вытягивания полученный круглый стержень необходимой длины алмазными дисками нарезают на круглые пластины, которые затем полируют, вытравливают и чистят, чтобы их поверхность стала зеркально чистой.
Процесс изготовления монокристаллического кремниевого стержня показан на изображении:
Полупроводниковые пластины росли в размерах. Если в 60-х годах их размер составлял 10 мм, то сейчас производители микросхем активно работают с пластинами диаметром 150, 200 и 300 мм, хотя уже существуют и 450-миллиметровые [4]. Возможны и большие размеры (например, 1000 мм), но их создание вызывает некоторые трудности, такие как вытягивание кристаллов, изменение технологии нарезания и т.д.
И пластины (silicon wafer), и стержни (silicon ingot) можно запросто купить в Китае 🙂 , так что если решите проектировать микросхемы - ничто Вам не помешает, материал есть в продаже 😉
Таким образом, пластина, получаемая из монокристаллического кремниевого стержня круглая, поскольку в процессе её изготовления затравочный кристалл вращается, то есть таковы особенности изготовления кремниевых пластин.
Но почему микросхемы квадратные?
Задайте себе вопрос: какими фигурами нужно заполнить (замостить) площадь круга, чтобы максимально её использовать?
Предположим, что мы владеем технологией создания круглых микросхем. Примем, например, площадь одной микросхемы, равной 491 мм² (тогда диаметр круга одной микросхемы равен 25 мм) и поместим наибольшее их количество на 300-миллиметровую кремниевую пластину.
А теперь возьмём квадратную микросхему с такой же площадью 491 мм² (соответственно, сторона чипа будет равна √491 = 22.16 мм) и тоже разместим как можно большее их количество на300-миллиметровой кремниевой пластине.
Что же у нас получилось? Смотрим на рисунке:
На одной кремниевой пластине поместилось 107 круглых микросхем, а на другой — целых 116 квадратных.
Использование пластины при замощении круглыми микросхемами составляет 74.33%, при замощении квадратными - 80.58%
Понятно, что квадратные микросхемы одерживают безоговорочную победу, так как использовать пластину нужно по максимуму.
Однако, крайне важен ещё один факт: разрезать пластину на квадраты гораздо проще, чем вырезать в ней круги.
И, конечно же, не стоит забывать о формах транзисторов, вытравливаемых на кристалле: они либо прямоугольные, либо квадратные. Поэтому, если вытравливать их на круглой микросхеме, то потеряется полезное пространство.
Вот именно поэтому кремниевые пластины круглые, а микросхемы (чипы) - квадратные.
О том, как изготавливаются микросхемы поговорим отдельно!
Литература
1. Wafer (electronics): https://en.wikipedia.org/wiki/Wafer_(electronics)
2. Monocrystalline pulling process: https://www.sumcosi.com/english/products/process/step_01.html
3. Japan leads the world in silicon wafer manufacturing: https://www.tel.com/museum/magazine/material/150430_report04_03/02.html
4. From 20 mm to 450 mm: The Progress in Silicon Wafer Diameter Nodes:
https://www.tel.com/museum/magazine/material/150430_report04_03/