Учёные Института проблем машиноведения (ИПМаш) РАН первыми в России создали пластины из карбида кремния. Приборы из этого материала будут выдерживать работу при экстремальных температурах.
Специалисты ИПМаш РАН создали отечественную технологию производства кристаллического материала для микроэлектроники. Карбид кремния, получаемый в результате работы российских специалистов, дешевле зарубежных аналогов в 10 раз. Микросхемы на основе этого материала выдерживают высокий уровень радиоактивного облучения. Отмечается, что такие характеристики позволят применять карбид кремния в космосе и на ядерных станциях.
Руководитель лаборатории ИПМаш РАН Сергей Кукушкин считает, что новаторское решение необходимо масштабировать. В случае создания массового высокотехнологичного производства российские компании смогут занять лидирующую позицию в области разработки полупроводников.
О том, что учёные из Архангельска создали прибор для определения качества искусственных алмазов, читайте здесь.