Завершились исследовательские работы по разработке безмасочного рентгеновского литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники.
Доклад ИФМ РАН вошел первую десятку для представления в отчётный доклад РАН Президенту РФ и Правительству РФ.
Инновационная разработка безмасочного рентгеновского литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники
Разработан облик безмасочного рентгеновского литографа на основе точечного лазерно-плазменного источника излучения на 13,5 нм и микроэлектромеханической системы микрозеркал в качестве динамической маски. Созданный проекционный трехзеркальный объектив с 400-кратным уменьшением обеспечивает разрешение литографа до 20 нм. Подтверждены основные принципы, заложенные в конструкцию безмасочного рентгеновского литографа, что позволяет приступить к этапу опытно-конструкторских работ по разработке литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники.
Авторы:
Н.И. Чхало (chkhalo@ipmras.ru; +79101094218), Н.Н. Салащенко, И.В. Малышев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, М.Н. Торопов (ИФМ РАН)
ООО «Маппер», ООО «ЭУФ лабс», МИЭТ.
Публикации:
1. N.I. Chkhalo et al., Proc. of SPIE, V.10224, 102241O-1-O8 (2016).
2. N. Chkhalo et al., Journal of Vacuum Science & Technology B, 35, 062002 (2017).
3. Н.Н. Салащенко и др., Поверхность, № 10, с.10–20 (2018).
1.3.2.5. Физика нано- и гетероструктур, мезоскопика
Работа выполнена в рамках СЧ НИР по теме «Разработка облика и критических технологий создания элементов установки безмасочной рентгеновской литографии» Государственного контракта с Министерством промышленности и торговли Российской Федерации № 21411.1970690019.11.002.
Важно заметить, что данная работа является предшествующей, для уже следующей, ведущейся той же ИПФ/ИФМ РАН:
ОКР на безмасочный 7 нм литограф планируется к созданию в три этапа: 2024-ый год альфа машина, 2026-ой год бета машина, 2028-ой год финальная (возможно промышленная?) версия.
(https://www.ixbt.com/news/2022/10/21/rossija-sama-smo..)
На рисунке рентгенооптическая схема безмасочного нанолитографа с трехзеркальным объективом (зеркала M1, M2, M3) с уменьшением 400 крат и матрицей МЭМС микрозеркал, работающей на отражение. Увеличено показан отдельный элемент МЭМС (СЭМ снимок).
Источник: http://www.ipmras.ru/institute/news/829-3-nauchnykh-rezultata-ifm-ran-voshli-v-top-10-kotorye-budut-napravleny-v-ran-/