Приветствую вас уважаемые читатели канала!
Основной технологией, обеспечивающей возможность изготовления и развития микроэлектроники, является фотолитография. Две зеленоградские организации по заказу Минпромторга занялись разработкой фотолитографов для реализации разных проектных норм — от 130 до 28 нм и менее. Речь о длительных НИР и ОКР, которые, по-хорошему, нужно было начинать лет пятнадцать назад.
Нарастание геополитического противостояния России или, как теперь принято говорить, коллективного Запада продемонстрировало острую необходимость обеспечения технологической независимости России. В первую очередь это означает необходимость достижения независимости от поставок микроэлектроники — ключевого элемента любой современной электроники, которая, в свою очередь, является основой всей современной техники. Выполнение такой задачи требует развития в стране электронного машиностроения, которое должно обеспечить независимость российской микроэлектроники от импорта оборудования и технологий, главной из которых является фотолитография.
Последняя разработка советской фотолитографической установки (революционная по тем временам) была сделана в конце 1980-х минским предприятием «Планар» под научным руководством тогдашнего директора Физико-технологического института РАН академика Камиля Валиева. После распада СССР «Планар» сохранился, но, к сожалению, его разработки пока остаются на том же уровне 1980-х годов. Хотя и они востребованы на мировом рынке.
К сожалению, правительство вплотную занялось этой проблемой только с приходом в него новой команды в 2020 году. Возможно, если бы возрождать электронное машиностроение начали пятнадцать лет назад, страна не стояла бы сейчас перед угрозой лишения ее доступа к современной микроэлектронике.
И только в этом году Московский институт электронной техники (МИЭТ) подписал с Минпромторгом контракт на сумму 670 млн рублей на разработку безмасочного рентгеновского литографического аппарата «на основе синхротронных и/или плазменных источников».
Производство фотошаблонов сложное и дорогое, и чем детальнее требуется процесс, тем дороже фотошаблоны, а для каждого изделия нужны десятки штук. Безмасочная рентгеновская нанолитография MOEMS (микро-опто-электромеханические системы) будет развиваться в двух основных областях: контроль отражательной способности рентгеновских лучей и контроль пропускания рентгеновских лучей.
Ранее в 2019 году оптической системой, ее элементами и интерференционными покрытиями, созданием прототипа самой установки занимался коллектив разработчиков в Институте физики микроструктур (ИФМ) РАН (теперь это филиал Института прикладной физики РАН — ИПФ) в Нижнем Новгороде. Источник излучения разрабатывался в Институте спектроскопии (ИСАН) РАН в подмосковном Троицке. Разработчики предложили оригинальные решения конструкций источников излучения — отчасти они были применены и в самой голландской ASMLithography. Однако отечественный проект завершился на стадии макета: «Страна не может потянуть эту работу в одиночку. Ведь Голландии фактически помогает весь мир», — признавал главный научный сотрудник ИФМ РАН, член-корреспондент РАН Николай Салащенко.
Это новость не оставила равнодушными китайских пользователей сети и на специализированных сайтах они уже вовсю обсуждают возможности России:
К сожалению, пока комментариев китайских товарищей не много, но автор канала «Свой человек» будет заглядывать в китайский zhihu, чтоб понаблюдать за их реакцией.
Уважаемые читатели, давайте тоже проведем свой опрос! Ответив на предложенные вопросы вы сразу увидите общий результат "голосования" по теме.
Если вам понравилась статья подписывайтесь на этот канал! Для вас это всего один клик, а для меня огромная мотивация работать его дальнейшим развитием. Заранее спасибо! Хорошего вам дня и крепкого здоровья!
При подготовке статьи использовался материал интернет журнала «Стимул», где автор статьи Александр Механик подробно изложил что такое фотолитография, каких типов она бывает и многое другое в интересном стиле.