28 марта Intel представила свои новые идеи на пресс-конференции в Пекине. Компания сосредоточилась не только на ближайших планах, но и на будущем, в том числе на внедрении новых литографических процессов.
Intel сообщает, что текущий 10-нанометровый литографический процесс был на очень удовлетворительном уровне. К концу этого года начнется массовое производство процессоров в этом процессе. Эта технология послужит основой для процессоров Ice Lake для ноутбуков и серверов, а также Snow Ridge для 5G и новых систем Lakefield.
Но это еще не все, потому что компания решила пойти еще дальше. Intel высоко оценила планы развития литографических процессов. Поскольку 10-нанометровая технология находится на удовлетворительном уровне, следующим шагом будет внедрение литографии 7 нм, 5 нм и даже 3 нм.
Разумеется, во-первых, Intel не предоставила пропускную способность для внедрения этих процессов в производство, во-вторых, создание технологий с более низкой литографией потребует многих улучшений в процессе производства таких систем.
Но это будут поднебесные скорости работы процессоров. А вы бы хотели такое ускорение себе в компьютер или ноутбук?
💻Если статья была полезна, то ставьте лайк, подписывайтесь на канал и делитесь новинками со своими друзьями в социальных сетях.