Первый российский литограф, обеспечивающий выпуск чипов до 350 нм, создан и проходит испытания. Об этом ТАСС в кулуарах ЦИПР сообщил заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак. Это полностью соответствует тем планам, о которых мы узнали по тендерам и госконтрактам, информация о которых появилась сети в 2022. Согласно тем данным, степперы для производства 350 нанометров с рабочей длиной волны 365 нм должны пойти в серию к середине 2025 года. Этого достаточно для космоса и промышленности, где подобные зрелые техпроцессы до сих пор востребованы. 130 нм с лазером 193 нм по планам к середине 2026. Также ведётся разработка установок травления и осаждения, оборудование для изготовления фотошаблонов, установок получения гетероструктур и т.п. Установки создаются не только для внутреннего рынка, планируется также экспорт на рынки стран Юго-Восточной Азии. Контрактов на разработку фотолитографов с более тонкими нм, мы пока не видели, однако ведется разработка бесфотошаблонного литографа 28 нм.
47 прочтений · 15 часов назад