11,4K подписчиков
Первый российский литограф, обеспечивающий выпуск чипов до 350 нм, создан и проходит испытания. Об этом ТАСС сообщил заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак.
Это полностью соответствует информации о тех госконтрактах, которая появилась сети в 2022. Согласно им, степперы для производства 350 нанометров с рабочей длиной волны 365 нм должны пойти в серию к середине 2025 года. Этого достаточно для космоса и промышленности, где подобные зрелые техпроцессы до сих пор востребованы.
130 нм с лазером 193 нм по планам к середине 2026.
Также ведётся разработка установок травления и осаждения, оборудование для изготовления фотошаблонов, установок получения гетероструктур и т.п.
Установки создаются не только для внутреннего рынка, планируется также экспорт на рынки стран Юго-Восточной Азии.
Контрактов на разработку фотолитографов с более тонкими нм, мы пока не видели, однако ведется разработка бесфотошаблонного литографа 28 нм.
#Россия #РоссийскийХайТек #Новости #НовостиРоссии #Литограф
22 мая