В вакуумной среде, при температуре - 130 градусов, водяной пар может конденсироваться в слой супер гладкого тонкого льда. Ученые использовали это для замены материала фоторезиста при традиционном воздействии электронного луча, создавая несколько трехмерных металлических структур в микро - нано масштабе: пирамиды, грибы и мосты. Ожидается, что эта новая и простая электронно-лучевая литография, использующая этот метод защиты ото льда (iEBL или Ice EBL), продемонстрирует потенциал для трехмерной микро нано обработки.
25 июня 2018 года исследователи из Государственной лаборатории современных оптических инструментов Университета «Чжэцзян» во главе с профессором Цю Вэй опубликовали статью под названием «Трехмерная литография электронного пучка с использованием водяного льда» в журнале «Nano Letters», представляющую Метод 3D-нанообработки на основе электронно-лучевой литографии с использованием ледяных резистов (iEBL). Соавторами этого труда был Юй Хун, докторант в Университете «Чжэцзян», а также профессор Чжао Дин и Цю Ю, профессора оптической инженерии в университете «West Lake».
iEBL - это разработка стандартной технологии электронно-лучевой литографии (EBL), которая используется для проектирования устройств, систем и функциональных материалов в нано масштабах.
EBL - это практика сканирования сфокусированного пучка электронов для создания фигур на поверхности, покрытой электронно-чувствительной пленкой, называемой резистом (экспозиция). Воздействие электронного пучка изменяет растворимость резиста, что позволяет выборочно удалять либо открытые, либо неокрашенные области резиста путем погружения его в проявитель. Основным преимуществом электронно-лучевой литографии является то, что она может создавать пользовательские шаблоны (прямая запись) с разрешением до 10 нм.
Однако в реальных ситуациях это сложно. Небольшая вибрация инструмента, интерференция внешних магнитных полей и опыт оператора повлияют на конечный результат этой формы прямой записи.
В настоящее время точность воздействия электронного пучка составляет около 60-80 нм, что эквивалентно одной тысячной части человеческого волоса.
Учитывая растущий спрос на миниатюризацию и усовершенствование микро/нано-устройств, ученые все больше осознают ограничения процесса литографии. Чжао Дин, первый автор статьи и исследователь Университета Чжэцзян, говорит: «Для создания трехмерной структуры требуются очень утомительные и длительные этапы. Повторяя в вакууме и без вакуума, любая пыль в процессе может уничтожить образец».
Реализуй свои мысли и идеи посредством 3D-печати с командой профессионалов!
Официальный сайт: https://3dcrafter.ru/index.php
Вконтакте: https://vk.com/3dcrafter