Прогресс Intel в освоении 7-нм техпроцесса обеспечило успешное внедрение литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением
Прорыв в деле освоения новых полупроводниковых технологий американской Intel обеспечило применение литографии с жестким ультрафиолетом (EUV), заявил новый глава компании Пат Гелсингер 1 апреля в интервью Bloomberg.ИА Красная Весна