Я уже писал, и неоднократно, про очень интересные лоты Минпромторга, периодически появляющиеся на площадке электронных торгов, по теме НИРов с целью разработки безшаблонного литографа с длиной волны источника излучения 13,5 нм. Но Россия также ведёт разработки и в области классической фотошаблонной ультрафиолетовой литографии. Огромная масса устройств интернета вещей, автомобильной электроники и т.п. выпускаются не по топовым технологическим нормам, и для производства чипов этого немаленького сегмента вполне достаточно топологий 350 и 130 нм...